设备分类编码: 120299

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [化学工程]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 13503507359

电子邮箱: yangyibiao@tyut.edu.cn

通讯地址: 太原理工大学

邮政编码: 030024

联系人: 杨毅彪

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>化工、制药工艺实验设备>>其他

规格型号: JGB-450B

所属科研设施:

主要功能: " 高真空多靶磁控溅射镀膜机主要功能是采用磁控溅射的方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜、制备磁性薄膜，既可以制备单层膜，又可以制备各种多层膜。 "

主要技术指标: "1.系统经烘烤，极限真空度可达4.0*10-5pa。暴露大气（充入干燥氮气）后开始抽真空，40分钟真空度要达到6.6*10-4pa。 2停泵关机12小时后真空度1≤pa。 3 在真空室下部装有3个水磁靶，靶材直径Φ60mm,靶内水冷，射频溅射与直流溅射兼容；靶与样品距离90-110mm,当直接向上溅射室，靶与样品距离40-80mm,连续可调 4基片尺寸：最大可放置Φ30mm基片，可同时放置6片，其中一个工位安装加热炉，其余工位为水冷却基片台；基片加热最高温度：600℃±1℃。基片可连续回转，转速5~10转/分。。样品可加偏压（—200V）,去下加热炉可以换上水冷基片台。 "

安放地址: 太原理工大学

服务内容: *

服务的典型成果: *

对外开放共享规定: 太原理工大学大型仪器共平台实施细则（试行）

参考收费标准: *