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高真空磁控溅射镀膜机  (收藏)

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设备分类编码: 990000

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0931-8618499

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 宋玉哲

仪器所属类别: 其他仪器>>其他>>其他

规格型号: 172100

所属科研设施:

主要功能: 可通过直流溅射和射频溅射对不同的靶材进行溅射沉积镀膜。

主要技术指标: 设备共有3腔(反溅腔、溅射腔、氧化腔) 8靶 极限真空可达到5*10-6Pa,能进行2英寸晶圆镀膜。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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