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磁控溅射沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学, 航空、航天科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0431-85250410

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 安涛

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: JGP-560B

所属科研设施:

主要功能: 制备合金膜、多层膜

主要技术指标: 溅射室极限真空度:≤8.0x10-6 Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤6.6x10-8 Pa.l/S; 系统有6支磁控靶:均为60mm; 基片可以加热,单工位加热最高温度 800℃; 系统具有基片射频反溅清洗和高温退火功能,退火温度最高可达800℃。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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