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场发射扫描电子显微镜  (收藏)

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设备分类编码: 010102

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 023-65106001

电子邮箱: 125690188@qq.com

通讯地址: 重庆市沙坪坝区沙正街174号

邮政编码: 400044

联系人: 邓超

仪器所属类别: 分析仪器>>电子光学仪器>>扫描电镜

规格型号: MIRA3 XMU

所属科研设施:

主要功能: 显微粒子成像测速场系统(Micro PIV或μ-PIV)利用现代光学显微镜系统实现较高的空间分辨率,用于微纳尺度下的流动分析。进一步处理可得流场涡量、流线以及等速度线等流场特性参数分布。

主要技术指标: 加压范围0.2 kV-30 kV,二次电子探头分辨率1.0nm/30 kV,背散射电子探头分辨率2.0 nm/30 kV,放大倍数4-1000000x

安放地址: 大学城南路55号虎溪校区

服务内容: 主要用于表面形貌分析,EBSD分析

服务的典型成果: 每年服务科研项目100余项,包括国家重点重大项目,发表论文200余篇。
直立式石墨烯具有强的场致电子发射能力和很高的结构稳定性,非常适合于制作场发射器件的阴极材料,在场发射显示、冷阴极电光源、X射线源、电子束焊接和冷阴极电子源器件等领域有广泛的应用前景。 重庆启越涌阳微电子有限公司是一家创业型新企业,掌握了制备直立式石墨烯的超高温化学气相沉积工艺,然而采用此工艺制备的垂直石墨烯片层均一性较差,主要表现在生长密度不一致,片层尺寸与厚度差异大等。这急需要对工艺参数进行优化。通过改变工艺参数,比如生长基材、沉积温度、沉积时间以及气氛等,得到了近百组垂直式石墨烯样本,然而公司缺乏对这些样本进行高分辨观察设备。通过与重庆大学电镜中心合作,对这些样本在高分辨场发射扫描电镜下观察,获得了不同工艺条件下的形貌信息,积累了丰富的实验数据,并总结出了最优化制备工艺参数,为接下来直立式石墨烯的规模化生产打下了基础。

对外开放共享规定: 需要测试的用户在满足测试要求的都可在工作日内预约实验

参考收费标准: 校内:200元/小时,校外:400元/小时



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