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超高真空多靶溅射机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0451-86390840

电子邮箱: shiyunbo@126.com

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 施云波

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: JGP560C

所属科研设施:

主要功能: 主要用于纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研究开发。

主要技术指标: 1、磁控靶靶材尺寸:5×Φ60;2、极限真空:6.6×10-6Pa;3、加热温度:室温~500℃。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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