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反应离子刻蚀机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [机械工程, 航空、航天科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 029-88460353-8051

电子邮箱: zbma@nwpu.edu.cn

通讯地址: 西安市碑林区友谊西路127号

邮政编码: 710072

联系人: 马志波

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: RIE-502

所属科研设施:

主要功能: 用于MEMS浅槽刻蚀工艺。

主要技术指标: 1.极限真空:4.0×10-4 Pa2.刻蚀材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室规格: φ300´1004.电极尺寸: φ200mm5.刻蚀速率:0.1 ~ 1μ/min

安放地址: 友谊西路127号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定: 共享

参考收费标准:



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