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光刻机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [机械工程, 航空、航天科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 029-88460353-8051

电子邮箱: zbma@nwpu.edu.cn

通讯地址: 西安市碑林区友谊西路127号

邮政编码: 710072

联系人: 马志波

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: MA6

所属科研设施:

主要功能: 用于MEMS加工过程中的光刻工艺,主要包括掩膜对准与曝光功能。

主要技术指标: 1)正面对准精度:+/- 0.5μm。2)背面对准精度:+/- 1.0μm。3)光刻线条分辨率:0.7μm (UV400),0.5μm (UV300)

安放地址: 友谊校区

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定: 共享

参考收费标准:



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