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等离子体原子层沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120304

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 029-82668817

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 张易军

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电子产品通用工艺实验设备

规格型号: SUNALETMR-200ALD 含反应器主机、反应腔体、气体连接器等

所属科研设施:

主要功能: 采用十字九点法在片内测量9点、做超波形薄膜、用于半导体微电子领域研究

主要技术指标: 8英寸硅片,薄膜厚度10mm,片内均匀性差满足±2%以内,片间均匀性差满足±2%内,批改间重复性满足±2%内 2.8英寸硅片,薄膜厚度50nm,片内均匀性差±1%内,片间±1%内,批次间重复性差±1%内,测试时对以上指标,8英寸晶圆片基座连续沉积5年,采用十字九点法在片内测量9点

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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