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五靶头高压共溅射镀膜系统  (收藏)

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设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [动力与电气工程]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 029-82668817

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 刘明

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: CF-100 *

所属科研设施:

主要功能: 高压溅射系统主要用于沉积生长高质量氧化物异质多层及超晶格外延薄膜,由此裁剪异质界面,调节晶格应变,以及实现其他结构缺陷的剪裁

主要技术指标: 高度可调基片加热系统,基片温度最高可以达到950度、气压计(测量范围低于10(-6)mbar/真空度低于-8*10(-60)mbar/全自动气压控制系统

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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