设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 023-65935464

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联系人: 张之胜

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M

所属科研设施:

主要功能: 可以接触式曝光和接近式曝光，主要应用于二元微光学元件的制备。

主要技术指标: 光强均匀性Beam Uniformity:： --<±1% over 2” 区域 --<±2% over 4” 区域 --<±3% over 6” 区域 接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um 接触式样曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um 支持接近式曝光，特征尺寸CD： --0.8um 硬接触 --1um 20um 间距时 --2um 50um 间距时 正面对准精度 ± 0.5um 背面对准精度±1um--±2um 支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻，特征尺寸：100um-300um 支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻 支持真空、接近式、接触式曝光 支持恒定光强或恒定功率模式

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: