点击图片查看原图
UDP850 闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜机及周边设备  (收藏)

价格: 暂无价格

暂无服务

立即购买   加入购物车   加入预约

推荐
记录

设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学, 机械工程]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 023-89137939

电子邮箱: lcf@cast.gov.cn

通讯地址: 重庆市渝北区杨柳路2号

邮政编码: 401123

联系人: 周天勇

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: UDP850

所属科研设施:

主要功能: 该设备用于 1.各种硬质刀具的表面物理气相沉积,能够通过更换靶材和气体改变涂层成分; 2.各种汽车零部件的表面处理;例如:汽车活塞环DLC涂层; 3.精密模具,精密刀具的表面处理,提高其寿命和加工质量

主要技术指标: 1. windows操作系统下全自动镀膜控制程序全方位精准控制薄膜生长过程; 2.全设备采用最优秀的高精度控制元器件,气体流量控制系统采用(美国MKS原装,0.1SCCM);OEMTM反应气体控制器级压电阀能够精准把控薄膜内部的成份梯度; 3.该磁控溅射设备采用美国原装AE电源6KW Advanced Energy PNCL 靶电源(精度±0.01A);10KW Advanced Energy PNCL 偏压电源(精度±1V); 4.真空系统采用机械泵(BOC Edwrds原装泵) ;罗茨泵(BOC Edwrds原装泵);扩散泵(BOC Edwrds原装泵)极限真空度达到 3.4×10-4Pa; 5.腔体可利用体积Φ700×1000mm; 6.低温沉积,工作温度控制在诱发基体组织发生变化的温度内(200-500度);

安放地址: 杨柳2号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



扫描二维码
关注“智创中国”
全球设备一手掌握。

服务支持 400-0660-652 周一至周日9:00-21:00 售后服务/投诉处理