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磁控与离子束辅助沉积  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 022-23766525

电子邮箱: Caomeng20042004@sina.com

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 曹猛

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: FJL560C12,1.MEVVA ⅡA-H强流金属Kaufman离子源:加速电压20-80KV;脉冲离子流强度200-500mA;脉冲长度1.2ms;脉冲重复频率1-25Hz 2.直流溅射电源:

所属科研设施:

主要功能: 1.直流磁控溅射制备单质薄膜、多层膜(可加热控温)2.射频磁控溅射制备单质薄膜、多层膜(可加热控温)3.多靶共溅射制备薄膜(可加热控温)4.离子束辅助沉积技术制备单质薄膜、多层膜(可加热控温)

主要技术指标: 1.MEVVA ⅡA-H强流金属Kaufman离子源:加速电压20-80KV;脉冲离子流强度200-500mA;脉冲长度1.2ms;脉冲重复频率1-25Hz 2.直流溅射电源:最大输出电压500V;最大输出电流1A; 3.射频电源:射频频率13.56MHz 4.励磁电源:最大输出电压40V;最大输出电流3.5A 5.偏压电源:输出电压0~-800VDC;输出电流0~1A 6.加热控温电源:输出电压0~50V;输出电流0~12A

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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