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等离子体化学气相淀积系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学, 能源科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 022-60201634

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 潘国峰

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: PECVD-1202

所属科研设施:

主要功能: 本系统为计算机控制的双室PECVD系统,可制备SiO2、Si3N4、非晶硅、微晶硅等薄膜材料,两室间实现机械臂传输样品

主要技术指标: 反应室数量为双室,极限真空为2.0×10-5Pa(环境湿度≤55%),最大样品尺寸为φ300mm,淀积不均匀性为≤±5%(φ10吋范围内)≤±7%(φ12吋范围内)

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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