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电感耦合等离子体刻蚀系统  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 028-85101037

电子邮箱: ckqiu@ioe.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 邱传凯

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: Plasmalab System 100

所属科研设施:

主要功能: 主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造

主要技术指标: 刻蚀SiO2、硅等各种材料;刻蚀有效口径为100mm,均匀性<±6%;高深宽比,高刻蚀速率,高重复性;

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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