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等离子增强化学气相沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120204

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 020-39943836

电子邮箱: stsjiang@mail.sysu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 江灏

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>化工、制药工艺实验设备>>化学反应工艺实验设备

规格型号: 80Plus PECVD

所属科研设施:

主要功能: 用于半导体光电子、电子器件的钝化薄膜、入射光增透膜或低反射出光薄膜的制备

主要技术指标: 可进行SiOx和SiNx薄膜的沉积及NH3 Free SiNx薄膜的沉积;SiO2薄膜沉积厚度均匀性 < ±2% (100mm),重复性< ±2%,击穿电压:> 5MV/cm; 折射率:1.46 (可控范围1.46 - 1.50) (632.8nm波长测试),均匀性< ±0.005 (200mm),重复性< ±0.005,击穿电压:> 5MV/cm

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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