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高真空共溅射镀膜系统  (收藏)

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设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 020-39943836

电子邮箱: stsjiang@mail.sysu.edu.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 江灏

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: LJUHV SP303

所属科研设施:

主要功能: 半导体光电子、电子器件金属电极、绝缘膜的镀制

主要技术指标: 系统极限真空:(12 小时内)溅射室极限真空度<5×10-7torr;共溅射靶数与尺寸:3个×3英寸;2英寸晶片内膜后均匀度<±5%。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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