设备分类编码: 120304

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学, 能源科学技术, 环境科学技术及资源科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-52251175

电子邮箱: haihonghou@cslg.cn

通讯地址: 江苏省常熟市南三环路99号常熟理工学院

邮政编码: 215500

联系人: 侯海虹

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电子产品通用工艺实验设备

规格型号: MS500B型

所属科研设施:

主要功能: 该设备采用磁控溅射方式，用于开发纳米级的单层及多层功能膜—各种金属膜、半导体膜、介质膜及各类光学薄膜、磁记录薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜等。

主要技术指标: 1、系统真空指标： 磁控溅射室：经48小时连续烘烤（150℃），优于6.0×10-6Pa； 样品室：经12小时连续烘烤（120℃），优于6.0×10-5Pa； 2、抽气速率： 磁控溅射室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤8.0×10-4Pa； 样品室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤7.0×10-4Pa； 3、系统检漏漏率：优于1.3×10-8Pa?L/S。 4、真空获得及测量 溅射室：FB1200涡轮分子泵+2XZ-8机械泵抽气，DL70复合真空计测量； 样品室：FB600涡轮分子泵+2XZ-8机械泵抽气，DL9复合真空计测量；

安放地址: 南三环路99号常熟理工学院

服务内容: 半导体薄膜，金属薄膜，金属氧化物薄膜的制备

服务的典型成果: 无

对外开放共享规定: 无

参考收费标准: 无