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ALD原子层沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0571-88208991

电子邮箱: eqzhou@zju.edu.cn

通讯地址: 浙江省杭州市西湖区浙江大学

邮政编码: 310000

联系人: 周强

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: ALD150LX

所属科研设施:

主要功能: 按单原子层进行超薄膜的气相沉积

主要技术指标: 热和等离子两种生长方式;6"基片;均匀度<±2%;基片加热温度最高300℃;两个不带加热功能的生长源,两个带加热功能的生长源;可自动进样。

安放地址: 余杭塘路388号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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