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深反应刻蚀机  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 机械工程, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0571-88208991

电子邮箱: eqzhou@zju.edu.cn

通讯地址: 浙江省杭州市西湖区浙江大学

邮政编码: 310000

联系人: 周强

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: Plasmalab System100 ICP180

所属科研设施:

主要功能: Si的干法深刻蚀;Poly-Si,SiNx,SiO2,W,WSi,Ge,有机物的干法刻蚀;材料表面氟化。

主要技术指标: ICP 源:3000W 13.56MHz,RF 源:300W 13.56MHz,4"、6"基片,4路工艺气体(可扩展至8路),自动进样室,工艺室极限真空<10E-7乇,Bosch 刻硅工艺:均匀度<±5%;速率>3um/分,深宽比〉30:1

安放地址: 余杭塘路388号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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