设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0574-86685030

电子邮箱: wangbiao@nimte.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 王彪

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: ABM/6/350/NUV/DCCD/M

所属科研设施:

主要功能: 用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准，然后曝光，将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上，用于纳米器件的微加工。

主要技术指标: 光源：350W NUV 汞灯，365nm，400nm，436nm 均匀光束面积：6’’ diamater area 光束均匀性：±1-2% over 2’’diamater ±2-3% over 4’’diamater area ±3-5% over 6’’diamater area 掩模尺寸：3’’ and 5’’ 硅片尺寸：2’’ and 4’’ 曝光模式:Soft contact，Hard contact，Vacuum contact，Proximity gap 最佳分辨率:0.6 微米 曝光事件: 0.1~999.9 s可调 CCD 分辨率: 90x~600x

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: