设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 王嘉维

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: 组装

所属科研设施:

主要功能: 制备单层膜、多层膜和多组份的金属膜、合金膜、氧化物薄膜等。

主要技术指标: 1、采用单室立式电动上盖升降结构； 2、溅射室极限真空度：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 3、压力测量：采用进口美国英福康公司生产的薄膜压力规进行工作压力测量； 4、磁控靶及电源： 4.1、磁控靶：3英寸磁控靶3个，标准型永磁靶（非强磁性）2个，强磁靶（镀磁性材料）1个，水冷，与法兰采用氟橡胶圈密封，采用进口美国Kurt J.Lesker公司生产的磁控靶； 4.2、电源：RF：600W，1台，美国AE公司； DC：500W，1台，美国AE公司； 4.3、靶基距：靶表面与样品垂直距离为100mm±20mm，用光轴加直线轴承导向，可手动连续调节，有刻度指示； 4.4、挡板：采用磁流体密封转轴转动密封，电机带动，计算机控制； 5、镀膜方式：镀膜方式采用三靶共溅射成膜或者单靶溅射成膜； 6、样品台：具有加热、旋转功能； 6.1、样品尺寸：一工位可加热旋转样品台一套；最大可放置Φ50mm的样品一个， 有效均匀区为：Φ50mm； 6.2、样品台的加热炉最高加热温度为800℃，程序控温，控温精度±1℃； 6.3、样品实现自转，转速为：0~50转/分； 7、气路：三路进气（N2、Ar、O2），分别用质量流量控制器控制； 8、溅射室烘烤照明：采用红外加热除气方式，烘烤温度：150℃； 9、真空室内有衬板，避免溅射材料直接溅射到溅射室真空壁上； 10、设备具有断水断电连锁保护功能； 11、溅射镀膜过程采用计算机控制，具有：（1）真空度采集；（2）确认靶位功能；（3）溅射镀膜时间控制功能；（4）样品自转控制功能；（5）靶挡板开启控制功能；（6）流量设定和控制功能等控制。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

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