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原子层沉积设备  (收藏)

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设备分类编码: 990000

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [力学, 材料科学, 物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-65988636

电子邮箱: cwcheng@tongji.edu.cn

通讯地址: 上海市四平路1239号同济大学物理科学与工程学院

邮政编码: 200092

联系人: 程传伟

仪器所属类别: 其他仪器>>其他>>其他

规格型号: SUNALER-200|| ||*

所属科研设施:

主要功能: 功能:沉积参数(厚度,成份和结构)高度可控,优异的沉积均匀性和一致性。 应用范围: (1)半导体领域(晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,集成电路中的互连种子层,DRAM和MRAM中的电介质层,集成电路中嵌入电容器的电介质层, (2)纳米技术领域(中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,,纳米晶体,纳米结构,中空纳米碗,存储硅量子点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层)。 (3)可沉积材料类型,金属氧化物ZnO,TiO2, Al2O3,SnO2,金属Pt, Ir等。

主要技术指标: 热ALD沉积Al2O3薄膜厚度均匀性:衬底:4英寸硅片;测试方法:9点;指标:Al2O3:300°C,500次循环,厚度 TMA+H2O; 原子层沉积(ALD)的自限制性和互补性致使该技术对薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力;所制备的薄膜保形性好、纯度高且均匀。

安放地址: 第一实验楼521

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: 收费标准:校内、校外2种不同收费标准。收费方式:按小时收费。校内:1000到 元/小时;校外:到 元/小时。



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