设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-65648597

电子邮箱: zhanglijian@fudan.edu.cn

通讯地址: 上海市杨浦区邯郸路220号

邮政编码: 200433

联系人: 张立建

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: PlasmaPro System 100

所属科研设施:

主要功能: 在保持一定压力的原料气体中，借助射频功率产生气体放电，使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体。在气体放电等离子体中，由于低速电子与气体原子碰撞，产生正、负离子之外，还会产生大量的活性基，从而大大增强反应气体的化学活性。这样，在相对较低的温度下，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。由于 PECVD 技术是通过反应气体放电来制备薄膜的，有效地利用了非平衡等离子体的反应特征，从根本上改变了反应体系的能量供给方式。 PECVD的优点是：基本温度低，沉速率快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。

主要技术指标: 可蒸发不同厚度的SiO2和SiNx薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。 沉积薄膜种类：SiO2，SiNx，SiONx 基底温度：小于400oC 薄膜均匀性：±3% （ 4英寸 ） 装片：小于6英寸的任意规格的样品若干

安放地址: 邯郸路220号

服务内容: 生长SiO2和SiNx薄膜

服务的典型成果: 在Nature及其子刊、PRL等杂志上发表文章

对外开放共享规定: 遵守微纳加工实验室规章制度

参考收费标准: 700元/小时