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等离子体增强化学气相沉积设备  (收藏)

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设备分类编码: 130101

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [土木建筑工程]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 023-62652991

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 周超

仪器所属类别: 计算机及其配套设备>>计算机>>计算机

规格型号: PECVD-800

所属科研设施:

主要功能: PECVD-800型高真空等离子增强化学气相沉积设备主要由沉积室,分子泵高真空系统,电源,生长机体载体及温控系统,独立排气和生长压力调节系统,冷却循环水辅助设备等组成。本装置能用于沉积半导体行业生产所须的SiNx/SiO2/ZnO/ZnS薄膜或聚合物薄膜等

主要技术指标: 基片台尺寸≤400mm基片台运动转速0-20转/分

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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