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超高真空多功能磁控溅射设备  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 025-83792432

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 寇朝霞

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: JGP560C9

所属科研设施:

主要功能: 用于在超高真空背景下充入高纯氩气,采用磁控溅射方式制备单层及多层功能膜-各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜及多元合金模等射频电源、直流电源、分子泵机组

主要技术指标: 主溅射室φ560*H250(mm)、进样室φ250*L400(mm)、极限真空8*10e-7Pa、6靶位

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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