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深氧化硅等离子体刻蚀机  (收藏)

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记录

设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-62872517

电子邮箱: bliu2012@sinano.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 刘彬

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: NLD-570

所属科研设施:

主要功能: NLD(neutral loop discharge,磁中性环路放电)较ICP而言,可对形成在真空腔内的磁场强度为0的环形磁中性线施加高频电场,并由此产生等离子体。通过改变电流大小可以控制等离子体的直径及密度,所以具有高刻蚀速率、高均匀性、高等离子体密度及低压放电等优点。可用于SiO2、石英、微透镜及SiC等材料的刻蚀。

主要技术指标: 设备配气:Ar、O2、O2(大、小量程之分)、CF4、C4F8、CHF3、C3F8、SF6。 Antenna RF:0-2000W。 Bias RF:0-1000W。 Shield:~+200℃。 chiller:-20~+40℃。 NLD COIL:60A

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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