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ICP等离子体刻蚀机(Ⅲ-Ⅴ)  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-62872517

电子邮箱: bliu2012@sinano.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 刘彬

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: Plasmalab System 100 ICP 180

所属科研设施:

主要功能: 利用刻蚀气体产生的等离子体进行刻蚀III/V族半导体材料,实现刻蚀图形的转移。

主要技术指标: icp:0-3000W、高深宽比刻蚀III/V半导体材料

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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