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ICP等离子体刻蚀机(深硅)  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-62872517

电子邮箱: bliu2012@sinano.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 刘彬

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: STS MPX HRM System

所属科研设施:

主要功能: 可对硅材料进行快速高陡直度刻蚀工艺

主要技术指标: 硅材料刻蚀速率:>5um/min、侧壁陡直度90±2°刻蚀片内均匀性:<5%

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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