设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 工程与技术科学基础学科, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 张志强

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: Raith150-TWO

所属科研设施:

主要功能: RAITH150-TWO是高分辨高性能的电子束光刻直写系统，又称电子束曝光机，用于在微纳加工工序中实现光刻功能。电子束曝光主要是利用某些光刻胶（高分子聚合物）对电子敏感而形成曝光图形，这是微纳加工中非常重要的一道工序，只有先在光刻胶上形成纳米结构，才能进行下一步的图形转移将图形最终制备在衬底上。

主要技术指标: 主要技术参数： ？ 热场发射肖特基源 ？ 束能量范围20 eV - 30 keV ？ 束电流: 5pA – 20nA ？ 束流密度 >> 7500 A/cm2 at 20 kV and 2 nm spot size ？ 束流稳定性: <= 0,5% / 8 hours ？ 探测器：Everhart Thornley二次电子探测器和高效in-lens二次电子探测器 ？ 激光干涉控制工作台，运动范围150 x 150 mm ？ 数字信号处理控制的高速图形处理器单元，20MHz，带动态扫描修正

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