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光刻机  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-69588061

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 周连群

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: EVG620

所属科研设施:

主要功能: 对硅晶圆上涂覆的光刻胶进行图形压印、紫外曝光操作

主要技术指标: (1)基片夹具尺寸: 3”- 6”圆片;(2)对准精度: 单面对准:≤±0.5um, 背面对准:≤±1.0um;(3)光刻分辨率:≤0.8um;(4)曝光系统:紫外光源波长范围: 350 - 450nm;(5)曝光灯功率;500W;(6) 压印深宽比≥1:1;(7)陡直度≥80度;(8)压印深度:50纳米±10纳米;(9) 压印线宽:50纳米±10纳米。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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