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高真空双室磁控溅射镀膜设备  (收藏)

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设备分类编码: 120303

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [物理学, 化学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-69157039

电子邮箱: xdsu@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 苏晓东

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电真空器件工艺实验设备

规格型号: JGP500

所属科研设施:

主要功能: 该设备采用磁控溅射(RF&DC)方式,镀制各种单层膜、多层膜以及掺杂膜。可用于制备各种金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质复合膜和其它化化物薄膜。

主要技术指标: 该设备系由涡轮分子泵机组抽气带空气锁的双室(主溅射室+进样室+磁力进样装置)超高真空系统。主溅射室尺寸为Φ500×H400㎜,梨形截面筒式真空室、大法兰盖电动升降,大法兰盖与真空腔体的密封采用氟橡胶圈密。选用基片在下,磁控靶在上的结构,向下溅射成膜方式。安装三支Φ3″永磁磁控靶(其中一支进口),RF&DC兼容;Kaufman源5cm离子枪,在PLC可编程控制下可分别对三个工位的样品依次进行镀前清洗。基片转盘程序控制,不同的基片可选择不同的靶位。进样室尺寸Φ250×L320㎜,卧式前开门结构;磁力样品传递装置(手动),可将样品库上待镀样品送入到主溅射室内的基片转台上,同时也可将主溅射室内镀好的样品取下,放回样品库内。

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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