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磁控溅射仪  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [工程与技术科学基础学科]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-69588061

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 周连群

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: MP500S

所属科研设施:

主要功能: 用于MEMS器件中的氮化铝(AlN)压电薄膜制备

主要技术指标: (1)600 W射频源;(2)2 kW直流源;(3)底电极可加热到800℃ 且持续时间大于30min;(4)反应腔内径为500mm;(5)溅射前腔内压力:≤10-7Torr; (6)偏置电压:10V-300V可调;(7)薄膜厚度最大为3微米(AlN),薄膜不均匀性:≤±5%。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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