设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 周连群

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: System 100 PECVD

所属科研设施:

主要功能: 等离子增强型化学气相沉积系统(PECVD)是一种灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备，主要原理是将含有薄膜组分原子的气体电离、分解后，形成等离子体，利用等离子体化学活性强、易发生化学反应、反应温度低的特点，在基片上沉积出所期望的薄膜。其具有较大的工艺灵活性，适用于化合物半导体、光电子学、光子学、微机电系统（MEMS）和微流体技术等领域。

主要技术指标: (1)标准380 V -415 V，50 Hz电源箱；(2)13.56 MHz,600 W射频源及自动匹配网络；(3)50 kHz-460 kHz, 500W低频源；(4)底电极80℃-400℃连续可调；(5)200 mm铝制载盘；(6)系统漏气率：≤ 15 mTorr/min；(7)气体质量流量计控制精度：＜±1%

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: