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原子层沉积系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 化学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-69157165

电子邮箱: lli@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 李亮

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: LabNano 9100

所属科研设施:

主要功能: 可以将材料通过真空沉积到膜上

主要技术指标: 1.反应腔 304或316 不锈钢。可以生长最大6 英寸样品的腔体,氮气保护的双O-Ring 高温密封系统,有效隔绝其他气体渗漏。基底加热温度RT-400℃可控,控制精度±1℃。腔体烘烤温度RT-200℃可控,控制精度±1℃。 2.沉积模式 包括至少以下二种工作模式: 高速沉积的连续模式,沉积超高宽深比结构的停流模式。 3.前驱体源输运系统 共6路前驱体源,1路为常温源,接水和臭氧;5路为加热源,加热温度RT-200℃可控,控制精度±1℃。加热源配备耐高温(325°C) 世伟洛克手动阀,前驱体源瓶体积50cc 4.ALD阀每一路前驱体配置一个世伟洛克原子层沉积专用高速高温ALD阀,ALD阀加热温度RT-150℃可控。 ALD阀最小脉冲时间~10 msec

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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