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双离子束沉积系统  (收藏)

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记录

设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 化学, 材料科学, 教育学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-67870289

电子邮箱: xmwu@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 吴雪梅

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: LDJ-2A

所属科研设施:

主要功能: 本仪器之主源用于溅射,辅源用于辅助沉积,主源溅射出的靶材料原子或离子约以5—25eV能量沉积于基底表面,适用溅射金属、合金、陶瓷等材料,辅源预清洗基底表面以改善吸引力,增加成核点,若在薄膜生长过程中施加低能离子轰击,可改善薄膜的结构及应力状态,加氧或氮可进行反应溅射沉积。

主要技术指标: 1.极限真空度:6×10-4Pa 2.主源:1000eV,100—120mA 辅源:800eV,100mA 3.溅射靶:F100 mm 4.基片台:F40 mm,旋转,扫描,水冷

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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