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离子束刻蚀系统  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 工程与技术科学基础学科, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-65112711

电子邮箱: liuquan@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 刘全

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: LKJ-ID-150

所属科研设施:

主要功能: 可刻蚀SiO2、Si、SiN、Mo、MoSi、Ta、TaSi、HfO2、光刻胶和多种金属等,即在玻璃或石英等基片上刻蚀衍射光学元件。离子束刻蚀是微细加工的一种重要手段。

主要技术指标: 离子刻蚀系统由离子源、真空系统、反应室、气路系统、水冷系统五大部分组成 1.离子源口径:Ф150mm 2.有效离子束直径:Ф100mm 3. 离子束流密度:≥1mA/cm2 4. 离子能量:150 eV~1000eV 5.真空系统:1500升/秒分子泵、11升/秒机械泵各1台。带真空计。 6.反应室尺寸:Ф325mm 7.气路系统:2路进气(可作清洗);2个质量流量计, 2路显示。 8.可加工片子尺寸:Ф150mm以内。 9.均匀性:±5% 10. 水温控制范围:5℃~25℃

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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