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反应离子刻蚀机  (收藏)

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记录

设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-65881259

电子邮箱: mfpeng@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 彭明发

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: Plasmalab 80plus RIE

所属科研设施:

主要功能: 反应离子刻蚀机是微米纳米器件制备的必备设备。反应离子刻蚀机通过交变的电磁场在有反应气体的腔室内激发等离子体,通过等离子体中的气体离子和化学活性的自由基与材料表面的化学反应和离子轰击表面的过程刻蚀材料。

主要技术指标: 1.刻蚀材料范围:Si、SiO2、Si3N4等硅基材料 2.样品尺寸:下电极尺寸240nm,最大可加工基片尺寸200mm,带有加热与冷却装置 3.射频电源:射频13.56MHz,功率0-600W可调 4.进样方式:开启式进样系统 5.供气系统:8路刻蚀气,包括CF4、CHF3、SF6、N2、He、O2、Ar等 6.控制系统:可设定刻蚀程序,刻蚀过程自动控制;含显示屏,显示工艺状态;具有良好用户界面

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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