设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [数学, 物理学, 化学, 材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-65882467

电子邮箱: zhijun.hu@suda.edu.cn

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 胡志军

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: Raith Poineer

所属科研设施:

主要功能: 电子束曝光机（electron beam lithography）是利用聚焦的电子束在表面上扫描产生纳米图形的装置。根据德布罗意的物质波理论，高能电子是一种波长极短(<1 nm )的波。利用电子束在电子抗蚀剂的表面扫描制备图案，可以避免光波散射作用的困扰，达到纳米的精度。电子抗蚀剂是对电子敏感的高分子，经过电子束扫描后发生分子链断裂或交联，使曝光部分发生化学性质的改变。经过显影和定影，获得高分辨的抗蚀剂曝光图形。

主要技术指标: ? Filament type Schottky-TFE ? Laserstage travel range 50x50x25 mm ? Beam size (resolution) ≤ 2.5 nm ? Minimum feature size ≤ 20 nm ? Field stitching /Overlay accuracy ≤ 50 (60)nm (m+2σ) ? Beam current drift ≤ 0.5% / 1 hour ? Writing speed 10 MHz 样品台可旋转和倾斜 主腔室可自清洁,保证曝光和成像质量 多用户管理软件系统,含三维曝光和邻近效应修正功能,及工艺模拟参数优化处理功能

安放地址: 干将东路333号

服务内容: 无

服务的典型成果: 无

对外开放共享规定: 无

参考收费标准: 无