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多功能离子束增强沉积设备  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 工程与技术科学基础学科]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0519-86330300

电子邮箱: jbsu@cczu.edu.cn

通讯地址: 江苏省常州市武进区滆湖路

邮政编码: 213164

联系人: 苏江滨

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: IBED-C600M

所属科研设施:

主要功能: 1. 各种金属、电介质、合金、陶瓷等薄膜的溅射沉积制备; 2. 多种电子信息功能薄膜的离子束合成制备; 3. 材料表面改性; 4. 离子束刻蚀 5. 离子束掺杂

主要技术指标: 1. 溅射离子源 加速电压:500V-2500V;最大离子束流:80mA; 均匀性<10% 2.辅助离子源 加速电压:500V-2500V;最大离子束流:80mA;均匀性<10% 3. 气体注入离子源 最高加速电压:60KV;最大离子束流:10mA; 注入束斑大小:约160mm;均匀性<10% 4. 极限真空度 8E-5Pa 5. 溅射靶尺寸:11×13cm2, 可放四个靶 6. 样品可以自转、公转

安放地址: 滆湖路1号

服务内容: 样品测试、分析检测

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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