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双面对准曝光机  (收藏)

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设备分类编码: 120301

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-65112492

电子邮箱: zbfang@nicrotek.com

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 方宗豹

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电路板制造工艺实验设备

规格型号: ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M

所属科研设施:

主要功能: "功能:用于掩膜拷贝曝光; 应用范围:微光学、微点路、MEMS、微流道等; "

主要技术指标: 主要规格: 1、 光源:350W NUV; 2、 双CCD、双面对准系统;CCD图像倍率:180x~1200x;2个17寸LCD监视器; 3、 支持2、4、6英寸方基片;2、3、4、5、6英寸圆基片;技术指标: 1、365nm光强密度:18-20mW/cm2;400nm光强密度:30-35mW/cm2; 2、均匀性:50mm口径<±1%;100mm口径<±2%;150mm口径<±3%; 3、分辨率:0.6um(接触式);1um(接近式); 4、正面对准精度:±0.5um 5、背面对准精度:±2um "

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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