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离子束溅射沉积薄膜系统  (收藏)

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设备分类编码: 120399

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 0512-65113371

电子邮箱: bcao2006@163.com

通讯地址: 苏州市吴中区干将东路333号

邮政编码: 215002

联系人: 曹冰

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>其他

规格型号: LDJ-3B

所属科研设施:

主要功能: 该系统是一种双离子源,外加靶台的镀膜沉积系统。要求保证镀膜均匀区:100mm,保证镀膜的致密性及表面光洁度达到要求。

主要技术指标: 1.主离子源 离子源发射束径: ≥Φ120mm; 离子能量可调范围: 0-1000eV; 2.辅助离子源 离子束轰击范围直径: >Φ100mm; 离子能量可调范围: 0-1000eV; 3.四靶台(水冷、外部随机换靶)或三靶台 靶台一次可装不同材料靶数: 4靶或3靶; 靶温: <100℃; 4.旋转扫描式衬底台(水冷),具备台面自转 台面直径: ≥Φ110mm; 5.沉积薄膜可控度 沉积薄膜均匀性: ±5%以内; 6. 真空性能指标 系统极限压强:≤8.5*10-5Pa; 系统工作前本底压强:≤5*10-4Pa;(从大气抽至本底真空度小于45分钟)

安放地址: 干将东路333号

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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