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反应离子刻蚀机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [信息科学与系统科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-62511070-8402

电子邮箱: xyh8223@mail.sim.ac.cn

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 吴良才

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: Plasmalab80Plus

所属科研设施:

主要功能: 刻蚀相变材料GeSbTe等,金属/电极材料W、TiN等,介质材料SiNx、SiO2等。

主要技术指标: 平底真空:5pa 样品尺寸:4英寸 样品数量:9片 极限温度:350摄氏度 RF电源:1-6KW

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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