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电子束曝光系统  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [材料科学, 冶金工程技术, 计算机科学技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-62511070-2118

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 姚栋宁

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: 组装

所属科研设施:

主要功能: 纳米曝光

主要技术指标: 二次电子分辨率:3.0nm(25KV,高真空模式) 加速电压:0.3~30KV 样品台:X: 80mm, Y: 40mm, Z: 5~35mm, 倾斜角度:-20~90度 最小曝光尺寸:80nm (线的宽度或点的直径)

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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