设备分类编码: 120499

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

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联系人: 庞俊

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>加工工艺实验设备>>其他

规格型号: 601E

所属科研设施:

主要功能: 主要用于硅基三维MEMS垂直结构的实现，成为体硅微机械加工的主要刻蚀设备

主要技术指标: 对4英寸晶圆的硅材料干法刻蚀，刻蚀深宽比为25：1；刻蚀硅速率：>3.5um/min（在10um线宽图形里）；初始掩膜侧向腐蚀(undercut)为每边: <0.3um；刻蚀均匀性：优于±5%；刻蚀侧壁垂直度：优于90±1°；对光刻胶刻蚀选择比为：>50:1，对氧化硅刻蚀选择比为：>150:1

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: