点击图片查看原图
多功能磁控等离子体系统  (收藏)

价格: 暂无价格

暂无服务

立即购买   加入购物车   加入预约

推荐
记录

设备分类编码: 120304

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [信息科学与系统科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 研制

联系电话: 021-62511070-8402

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 吴良才

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电子产品通用工艺实验设备

规格型号: 研制JGMF500

所属科研设施:

主要功能: 半导体材料制备

主要技术指标: 1.磁控溅射:真空室的本底真空优于5.0×10-5Pa;加热温度为室温至500℃,温度控制精度为±5℃;四靶共聚焦模式,靶材直径75mm;溅射过程中溅射气压采用实时监控自动控制方式,气压控制精度为0.01Pa;4英寸样品薄膜厚度均匀性<±4%。2.PECVD:真空室的本底真空优于5.0×10-5Pa;加热温度为室温至600℃,4英寸衬底加热的温度均匀性优于±5%;4英寸样品薄膜厚度均匀性<±4%。3.刻蚀:样品刻蚀速率范围0.1~1nm/min,刻蚀功率范围100~500W。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



扫描二维码
关注“智创中国”
全球设备一手掌握。

服务支持 400-0660-652 周一至周日9:00-21:00 售后服务/投诉处理