设备分类编码: 120304

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [信息科学与系统科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 研制

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联系人: 吴良才

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>电子产品通用工艺实验设备

规格型号: 研制JGMF500

所属科研设施:

主要功能: 半导体材料制备

主要技术指标: 1.磁控溅射：真空室的本底真空优于5.0×10-5Pa；加热温度为室温至500℃，温度控制精度为±5℃；四靶共聚焦模式，靶材直径75mm；溅射过程中溅射气压采用实时监控自动控制方式，气压控制精度为0.01Pa；4英寸样品薄膜厚度均匀性＜±4％。2.PECVD：真空室的本底真空优于5.0×10-5Pa；加热温度为室温至600℃，4英寸衬底加热的温度均匀性优于±5％；4英寸样品薄膜厚度均匀性＜±4％。3.刻蚀：样品刻蚀速率范围0.1~1nm/min，刻蚀功率范围100~500W。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: