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等离子纳米薄膜高精度刻蚀仪  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-54263338

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 庞俊

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: 2011-657

所属科研设施:

主要功能: 刻蚀氧化硅、氮化硅、多晶硅薄膜

主要技术指标: 氧化硅刻蚀速率:300nm/m;氮化硅刻蚀速率:300nm/m;氮化硅刻蚀速率:1000nm/m;均匀性正负 5%

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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