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微细加工ICP刻蚀机  (收藏)

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设备分类编码: 120302

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-65642222

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 孙清清

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备

规格型号: GSE 200PLUS

所属科研设施:

主要功能: 面开发出各种工艺,用于对使用氟基化学的材料进行各向同性和各向异性蚀刻,其中包括:碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、光阻剂、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨钛以及钨

主要技术指标: 1. 高选择性各向异性腐蚀,符合苛刻的制程要求; 2. 全自动"一键"操作完全代替手动操作; 3. 易于使用的电脑触屏的参数控制和配方输入和存储; 4. 晶圆尺寸达8"英寸直径,圆滑、紧凑的设计使用最少的洁净室空间; 5. RIE-10NR设计用于蚀刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片。其安装在节省空间的平台上的模块化设计,使其成为全世界许多用户的首选系统;

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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