设备分类编码: 120204

仪器设备分类: 通用

主要学科领域: [信息科学与系统科学]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-54263338-523

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联系人: 夏伟锋

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>化工、制药工艺实验设备>>化学反应工艺实验设备

规格型号: DF550-4

所属科研设施:

主要功能: 沉积氮化硅薄膜（普通氮化硅薄膜、低应力氮化硅薄膜、多晶硅薄膜、TEOS薄膜、以及低温氧化硅薄膜）主要用于表面微机械加工

主要技术指标: 通常工艺温度可达800？C，真空度达到1E-3mTorr，主要用于氮化硅、多晶硅以及氧化硅薄膜的沉积，可以在4英寸的硅片上生长普通氮化硅、低应力氮化硅、多晶硅、TEOS、以及低温氧化硅，均匀性优于3%。

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: