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电子束曝光系统  (收藏)

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设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 工程与技术科学基础学科, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

联系电话: 021-62511070

电子邮箱:

通讯地址:

邮政编码:

联系人: 彭炜

仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: JBX-6300FC

所属科研设施:

主要功能: 用于亚微米至纳米(≤10nm)尺寸的图形曝光 用于掩模板制备 主要用于超导单光子探测、nano-SQUID等超导微纳器件制备

主要技术指标: 100kV场发射电子枪,最小束斑≤3nm 矢量扫描,速度50MHz 最大支持5”掩模版,2”-6”晶片及小基片 最小线宽≤8nm,场拼接误差≤20nm,对准精度≤20nm 写场范围:62.5um×62.5um(高精度),500um×500um(高速)

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准:



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