设备分类编码: 129900

仪器设备分类: 专用

主要学科领域: [物理学, 工程与技术科学基础学科, 材料科学, 电子与通信技术]

仪器设备来源: 购置

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仪器所属类别: 工艺试验仪器>>其他>>其他

规格型号: SME-200

所属科研设施:

主要功能: 可实现Nb、NbN、NbTiN、Al、AlN薄膜、超薄膜及多层膜生长 8英寸溅射靶， 6英寸样品工位（加热、水冷） 可进行原位离子束清洗、原位氧化

主要技术指标: 7个独立腔室：溅射室？4/清洗室？1/进样室？1/传递室？1 溅射室真空度：≤3 10-5Pa，清洗室真空度：≤1？10-4Pa 进样室、传递室真空度：≤8？10-5Pa 加热工位最高温度： 600oC以上 NbN工艺：恒流模式，溅射电流3A，Ar/N2比30/9，溅射气压0.27Pa，靶基距离50mm，沉积速率1.5nm/s

安放地址:

服务内容:

服务的典型成果:

对外开放共享规定:

参考收费标准: